1月14日晚间，中微公司(688012)发布2023年年度业绩预告，公司预计去年营业收入约62.6亿元，同比增长约32.1%，其中，2023年刻蚀设备销售约47.0亿元，同比增长约49.4%；MOCVD设备销售约4.6亿元，同比下降约34.0%。

同时，公司预计去年归属于母公司所有者的净利润为17.00亿元至18.50亿元，同比增加约45.32%至58.15%；同期归属于母公司所有者的扣非净利润为11.00亿元至12.40亿元，同比增加约19.64%至34.86%；2023年公司非经常性损益较上年同期的2.50亿元增加约3.62亿元；非经常性损益变动主要系公司于2023年出售了部分拓荆科技股票，产生税后净收益约4.06亿元。

订单方面，中微公司2023年新增订单金额约83.6亿元，较2022年新增订单的63.2亿元增加约20.4亿元，同比增长约32.3%。其中刻蚀设备新增订单约69.5亿元，同比增长约60.1%；MOCVD设备新增订单约 2.6亿元，由于终端市场波动影响，同比下降约72.2%。

对于业绩变化的主要原因，中微公司归纳为如下几点：

一是近年随着人工智能、云计算、大数据、自动驾驶等新兴产业进一步加速发展，半导体微观加工设备作为数码产业的关键基石，其市场高速发展。公司主营产品等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备之一，市场空间广阔，技术壁垒较高。公司开发的多类刻蚀设备在性能、硬件稳定性等方面满足了客户先进制程中各类严苛需求，在产业化推进过程中取得显著成果。受益于公司完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品升级快速迭代、刻蚀应用覆盖丰富等优势，2023年公司CCP和ICP刻蚀设备均在国内主要客户芯片生产线上市占率大幅提升；公司的TSV硅通孔刻蚀设备也越来越多地应用在先进封装和MEMS器件生产。

其次，公司在新产品开发方面取得了显著成效。据介绍，近两年公司新开发的LPCVD设备和ALD设备，目前已有四款设备产品进入市场，其中三款设备已获得客户认证，并开始得到重复性订单；公司新开发的硅和锗硅外延EPI设备、晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多个新产品，也会在近期投入市场验证；公司开发的包括碳化硅功率器件、氮化镓功率器件、Micro-LED等器件所需的多类MOCVD设备也取得了良好进展，2024年将会陆续进入市场。

再则，公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地已正式投入使用、上海临港的约18万平方米的生产和研发基地部分生产厂房已经投入使用，支持了销售快速增长的达成。中微公司表示，公司持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定、安全，设备交付率保持在较高水准，设备的及时交付也为公司销售增长提供有力支撑。公司特别重视核心技术的创新，始终强调创新和差异化并保持高强度的研发投入，同时公司生产运营管理水平不断提升，产品成本、运营费用控制能力有效增强。

“2023年公司的MOCVD设备受LED终端市场波动影响，销售额有所下滑；而公司备品备件及服务方面则维持健康水平。”中微公司在预告中阐述。

面对短期行业波动，在去年8月中期业绩会上，中微公司董事长尹志尧曾对行业及公司长期前景做出展望。他谈道：“长期而言，集成电路市场一直增长很快，短期而言其周期性也是必然的。对于中国市场情况而言，不可避免受到国际环境影响而出现一定下滑，但不需要太担心，因为中国的市场非常大，而且国内集成电路产业发展已有长足的进步。中微的特点是不满足于现有的产品，每年都会开发新产品，即使在行业下行期。大家还是可以期待我们之后还会宣布开发新的产品和进入新的领域。”